特許
J-GLOBAL ID：200903083023675810

3次元形状測定装置および方法

発明者：
伊與田 哲男

伊與田 哲男 について

, 
安部 勉

安部 勉 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (3件)： 澤田 俊夫 ,  宮田 正昭 ,  山田 英治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-185657
公開番号（公開出願番号）：特開2006-010416
出願日： 2004年06月23日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 測定点密度を増加させながらコード探索エラーを減少させる。 【解決手段】 2つのストライプパターンがフレームメモリ110に記憶される。パターン切替部190によりストライプパターンが切り替えられ、2つのストライプパターンを連続して投射し、それぞれのストライプパターンの投影像を撮像して2つの撮像画像を得る。それぞれの撮像画像にエッジ抽出処理とコード付与処理を行い、2組のコード化エッジ画像を獲得する。得られた2組のコード化エッジ画像を重畳して、エッジ密度が高く、コード分布の良好なひとつの統合コード化エッジ画像を獲得する。求められた統合コード化エッジ画像に対して距離計測の計算を実施することで、複数のコード化エッジ画像に対して各々に距離算出を行う場合に比べて、距離算出時のアルゴリズムに起因するエラーの発生をより少なくすることが出来る。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
所定の輝度範囲で予め設定された複数レベルの輝度でコード化されたストライプパターンを被写体に投影する投光器と、この投光器の光軸からずれて配置され前記被写体を撮影するカメラと、前記ストライプパターンと前記カメラの撮影画像とを対応させて前記被写体までの距離を算出する算出部とを具備して前記被写体の3次元画像を得る3次元形状測定装置において、隣接する2つのストライプの輝度レベル差がN(Nは2以上の正数)レベル以上となるようにストライプを配列したストライプパターンであって相互にストライプ間のエッジ位置がずれており、パターン周期中に含まれる隣接する2つのストライプの輝度レベルの並びの種類が相互の間で重複しないものを複数用意し、それぞれのストライプパターンを前記被写体に別々に投影して前記被写体を撮影し、前記ストライプパターンのそれぞれで取得したエッジ画像を別々にコード化した後に統合処理することを特徴とする3次元形状測定装置。
IPC (3件)：
G01B 11/25 ,  G06T 1/00 ,  G01B 11/24
FI (3件)：
G01B11/24 E ,  G06T1/00 315 ,  G01B11/24 K
Fターム (23件)：
2F065AA51 ,  2F065BB05 ,  2F065DD04 ,  2F065FF05 ,  2F065FF07 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ07 ,  2F065JJ19 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2F065UU05 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057BA29 ,  5B057DA20 ,  5B057DB03 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC16 ,  5B057DC30 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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