特許
J-GLOBAL ID:200903083116827113

酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-263943
公開番号(公開出願番号):特開2001-081138
出願日: 1999年09月17日
公開日(公表日): 2001年03月27日
要約:
【要約】【課題】 高性能で、高感度の化学増幅型フォトレジストに用いられる酸感受性樹脂、この酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物、およびこの活性エネルギー線用樹脂組成物を用いるパターン形成法を提供する。【解決手段】 酸の作用によって酸を発生する酸増殖能を有する特定の一般式で表される2-ヒドロキシビシクロアルカン-1-スルホネート残基を側鎖に有するビニル系酸感受性樹脂を用いる。この酸感受性樹脂と活性エネルギー線によって酸を発生する物質、あるいはさらに酸の作用によって酸を発生する酸増殖剤とからなる感活性エネルギー線樹脂組成物を用いてパターンを形成する。
請求項(抜粋):
酸の作用によって酸を発生する酸増殖能を有する下記の一般式(1)で表される2-ヒドロキシビシクロアルカン-1-スルホネート残基を側鎖に有することを特徴とするビニル系酸感受性樹脂。【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基、R2 は水素原子またはメチル基、m+nは2であり、mは1または2を示す)
IPC (4件):
C08F220/10 ,  C08F212/14 ,  C08F228/06 ,  G03F 7/039 601
FI (4件):
C08F220/10 ,  C08F212/14 ,  C08F228/06 ,  G03F 7/039 601
Fターム (29件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA12 ,  4J100AB07P ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL19Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA12Q ,  4J100BA51Q ,  4J100BA55P ,  4J100BC02P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC33Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
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