文献

J-GLOBAL ID：200902160566626585   整理番号：00A0692920

酸増感単位を側鎖に有する新規重合体の合成とフォトレジスト材料への適用

Synthesis of a Novel Polymer with Acid Amplifier Unit in the Side Chain and Application for Photoresist Materials.

著者 (4件)： PARK S-W (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  ARIMITSU K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  LEE S (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  ICHIMURA K (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13  号： 2  ページ： 217-220  発行年： 2000年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学増幅レジストにおいて,光酸発生剤から生成する酸成分が引き...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...
準シソーラス用語： 触媒作用

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0692920&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (4件)： (1S,2S,3R,5S)-2,3-ピナンジオール ,  (1S,2S,3R,5S)-ピナン-2,3-ジオール2-メタクリラート3-(1-エタンスルホナート) ,  メタクリル酸tert-ブチル ,  ジフェニル[4-(フェニルチオ)フェニル]スルホニウム

引用文献 (19件)：

• 1). K. Ichimura, K. Arimitsu, and K. Kudo, Chem. Lett. (1995) 551.
• 2). K. Arimitsu, K. Kudo, and K. Ichimura, J Am. Chem. Soc. 120 (1998) 37.
• 3). K. Kudo, K. Arimitsu, and K. Ichimura, Mol. Cryst. Liq. Cryst. 280 (1996) 307.
• 4). K. Kudo, K. Arimitsu, H. Ohmori, H. Ito, and K. Ichimura, Chem. Mater. 11 (1999) 2119.
• 5). K. Kudo, K. Arimitsu, H. Ohmori, H. Ito, and K. Ichimura, Chem. Mater. 11 (1999) 2126.

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸 ,  増感 ,  側鎖 ,  新規重合体 ,  フォトレジスト