文献

J-GLOBAL ID：200902177353969403   整理番号：99A0609737

化学増幅レジスト用の新しい高透明性酸増幅剤を用いる193nmリソグラフィー

193nm Lithography with Novel Highly Transparent Acid Amplifier for Chemically Amplified Resist.

著者 (6件)： NAITO T (Semiconductor Leading Edge Technol., Inc. (Selete), Kanagawa, JPN) ,  OHFUJI T (Semiconductor Leading Edge Technol., Inc. (Selete), Kanagawa, JPN) ,  ENDO M (Semiconductor Leading Edge Technol., Inc. (Selete), Kanagawa, JPN) ,  MORIMOTO H (Semiconductor Leading Edge Technol., Inc. (Selete), Kanagawa, JPN) ,  ARIMITSU K (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN) ,  ICHIMURA K (Tokyo Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 12  号： 3  ページ： 509-514  発行年： 1999年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学増幅レジストにおいて,後加熱時に酸を発生して光酸発生剤か...

シソーラス用語： *化学増幅レジスト ,...

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分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  写真薬剤  (ZA03030B) ,  炭素橋かけ二環化合物  (CF06100Q)

物質索引 (3件)： rel-2-チオフェンスルホン酸(2α^*-ヒドロキシピナン)-3α^*-イル ,  rel-1-オクタンスルホン酸(2α^*-ヒドロキシピナン)-3α^*-イル ,  rel-2-オキソボルナン-10-スルホン酸(2α^*-ヒドロキシピナン)-3α^*-イル

引用文献 (31件)：

• 1) S.Takechi, Y.Kaimoto, K.Nozaki and N.Abe; J.Photopolym.Sci.Technol., 5 (1992) 439
• 2) R.D.Allen, G.M.Wallraff, W.D.Hinsberg, W.E.Conley and R.R.Kunz; Solid State Technol., 36 (1993) 53
• 3) R.D.Allen, G.M.Wallraff, W.D.Hinsberg, W.E.Conley and R.R.Kunz; J.Photopolym.Sci. Technol., 6 (1993) 575
• 4) K.Nakano, K.Maeda, S.Iwasa, J.Yano, Y.Ogawa and E.Hasegawa; Proc.SPIE, 2195 (1994) 194
• 5) M.Takahashi, S.Takechi, K.Nozaki, Y.Kaimoto and N.Abe; J.Photopolym.Sci. Technol., 7 (1994) 31

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学増幅レジスト ,  透明性 ,  酸 ,  増幅 ,  リソグラフィー