特許

J-GLOBAL ID：200903083282981023

熱伝導シート及びこれを用いた被処理基板の載置装置

発明者： 宮川 正章 ,  吉村 章弘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 田中 正男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-081747
公開番号（公開出願番号）：特開2008-244096
出願日： 2007年03月27日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：

【課題】フォーカスリングと載置台との接触面に配した熱伝導促進用の高分子材料からなる熱伝導シートが、フォーカスリング、又は載置台に固着するのを防止し作業効率を改善する。【解決手段】被処理基板を収容する減圧された収容室と、該収容室内に配置されて前記被処理基板を載置する冷却機構を内蔵した載置台と、前記被処理基板の周縁部を囲うように前記載置台に載置される環状のフォーカスリングとを備えた被処理基板の載置装置であって、前記載置台と前記フォーカスリングとの間に、少なくとも片側表面に非粘着層が形成されている熱伝導シートを配置した被処理基板の載置装置。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被処理基板を収容する減圧された収容室内に配置されて前記被処理基板を載置する冷却機構を内蔵した載置台と、前記被処理基板の周縁部を囲うように前記載置台に載置される環状のフォーカスリングとの間に配置される熱伝導シートであって、 前記熱伝導シートは、少なくとも片側表面に非粘着層が形成されていることを特徴とする熱伝導シート。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/302 101B ,  H01L21/68 N

Fターム (6件)：

5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F031CA02 ,  5F031HA38 ,  5F031MA32 ,  5F031PA11

引用特許：

出願人引用 (3件)

• フォーカスリング及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-242218   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 被処理体の載置装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-323208   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 被処理体の載置装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-216552   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

• 熱伝導性シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-113260   出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
• 放熱シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-330901   出願人：株式会社イノアックコーポレーション, イノアックエラストマー株式会社
• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-035824   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 被処理体の載置装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-323208   出願人：東京エレクトロン株式会社