特許
J-GLOBAL ID：200903083319223957

基板搬送システム

発明者：
太田 義治

太田 義治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-375304
公開番号（公開出願番号）：特開2007-176631
出願日： 2005年12月27日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】ガラス基板上の塗布膜に斑が生じないように,基板を搬送する。【解決手段】レジスト塗布処理ユニット24のステージ70の前後に,第1の搬送体100と第2の搬送体101を設ける。第2の搬送体101は,Y方向に並べられた複数のロール110と,ロール110を支持するハンド111と,ハンド111が取り付けられたレールプレート112を有する。また,ハンド111には,ロール110を回転させる回転駆動部113と,ハンド111をY方向に進退させる水平駆動部114が設けられる。ステージ70には,互いに独立して昇降自在な昇降ピン群が設けられる。ガラス基板Gが昇降ピン群によって上昇された状態で,ガラス基板Gの下方にロール110が進入し,ロール110にガラス基板Gが受け渡される。ロール110は,回転してガラス基板Gを後方に低速度で送りながら,後退する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板に塗布液を塗布する塗布処理部に対して基板を搬送する基板搬送システムであって, 基板を支持可能で水平方向に並べられた複数のロールと,前記複数のロールを一体的に支持する支持部材と,前記支持部材を移動させ,前記複数のロールを塗布処理部に対して進退させる移動機構と,前記複数のロールを回転させる回転駆動部とを有する搬送体と, 前記塗布処理部の基板を昇降させる昇降機構を備えたことを特徴とする,基板搬送システム。
IPC (3件)：
B65G 49/06 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
B65G49/06 Z ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 564Z ,  H01L21/30 569D
Fターム (15件)：
5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA15 ,  5F031GA53 ,  5F031HA33 ,  5F031LA13 ,  5F031LA15 ,  5F031MA03 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA02 ,  5F031PA13 ,  5F031PA18 ,  5F046JA19 ,  5F046LA11
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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