特許
J-GLOBAL ID：200903017501568746

基板処理装置及び基板処理方法

発明者：
坂井 光広

坂井 光広 について

, 
帰山 武郎

帰山 武郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-377532
公開番号（公開出願番号）：特開2005-142372
出願日： 2003年11月06日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】 処理液を安定に塗布することができる共に小型化された基板処理装置及び処理液を安定に塗布することができる基板処理方法を提供する。【解決手段】 垂直搬送ユニット7とレジスト塗布処理ユニットCTとが間隔hをおいて配置されている。このため、垂直搬送ユニット7の振動によりガラス基板Gへのレジストの塗布処理が不安定となることを防止することができる。また、垂直搬送ユニット7の周囲にレジスト塗布処理ユニットCT及び減圧乾燥ユニット53b、55bが配設されている。このため、垂直搬送ユニット7、減圧乾燥ユニット53b、55b及びレジスト塗布処理ユニットCTが一方向に並設されることことを回避して、塗布現像処理装置1の小型化を図ることができる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板を搬送するための搬送部と、 前記搬送部の周囲であって該搬送部の第1の側に所定の間隔をおいて配置され、前記基板に処理液を塗布する塗布処理部と、 前記搬送部の周囲であって前記第1の側とは異なる第2の側に隣接して配置され、前記基板に塗布された処理液を減圧下で乾燥する第1の減圧乾燥処理部と を具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  B65G49/00 ,  B65G49/06 ,  H01L21/68
FI (5件)：
H01L21/30 562 ,  B65G49/00 C ,  B65G49/06 Z ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 567
Fターム (27件)：
5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031NA09 ,  5F031PA03 ,  5F031PA04 ,  5F031PA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046HA03 ,  5F046JA22 ,  5F046JA27 ,  5F046KA10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-057303   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (19件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM