特許
J-GLOBAL ID：200903083486089944
ピコ秒レーザーによるホログラムの製造方法
出願人/特許権者：
科学技術振興事業団
科学技術振興事業団 について
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-036010
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241626
出願日： 2002年02月13日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：
【要約】【課題】 干渉したフェムト秒レーザーを用いて、非感光性材料に、不可逆的にホログラムを記録する場合、フェムト秒レーザーパルスと空気および材料との非線型光学相互作用により、パルスレーザーの波形が乱れ、このため、埋め込み型のホログラムを安定して記録できない欠点があった。【構成】 パルス幅τが900フェムト秒<τ≦100ピコ秒、レーザーパワーが10μJ/パルス以上で、可干渉性をもつレーザー光を発する固体レーザーを光源とし、該レーザーからのパルス光を二つに分割し、2つのビームを時間的および空間的に制御し、ホログラムを記録する基材表面または基材内部に集光し、二つのビームの集光スポットを時間的、空間的に合致させることにより干渉させ、基材表面に表面レリーフ型ホログラムあるいは基材内部に埋め込み型ホログラムを不可逆的に記録することを特徴とする二ビームレーザー干渉露光法によるホログラムの製造方法。
請求項（抜粋）：
パルス幅τが900フェムト秒<τ≦100ピコ秒、レーザーパワーが10μJ/パルス以上で、可干渉性をもつレーザー光を発する固体レーザーを光源とし、該レーザーからのパルス光を二つに分割し、2つのビームを時間的および空間的に制御し、ホログラムを記録する基材表面または基材内部に集光し、二つのビームの集光スポットを時間的、空間的に合致させることにより干渉させ、基材表面に表面レリーフ型ホログラムまたは基材内部に埋め込み型ホログラムを不可逆的に記録することを特徴とする二ビームレーザー干渉露光法によるホログラムの製造方法。
IPC (4件)：
FI (4件)：
Fターム (17件)：
2H049AA25
, 2H049AA34
, 2H049AA44
, 2H049AA45
, 2H049CA08
, 2H049CA15
, 2H049CA28
, 2H049CA30
, 2K008BB06
, 2K008DD02
, 2K008DD22
, 2K008EE01
, 2K008EE04
, 2K008EE07
, 2K008FF07
, 2K008FF14
, 2K008HH01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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ホログラムの製造方法および装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願2000-312715 出願人：科学技術振興事業団 -
ホログラフィ記憶の方法及び装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平9-144973 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション -
プラスチック透過型回折格子及びその製造方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願2002-113478 出願人：日東電工株式会社
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