特許
J-GLOBAL ID：200903083512129356

磁気記録媒体の磁化パターン形成方法、磁化パターン形成装置及び磁気記録媒体、並びに磁気記録装置

発明者：
池田 祥行

池田 祥行 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-111592
公開番号（公開出願番号）：特開2001-297431
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：
【要約】【課題】 寸法誤差の少ない精度のよいパターンを効率よく形成でき、しかも媒体やマスクを傷つけることなく、欠陥発生の少ない磁化パターン形成方法及び形成装置を提供し、ひいては高密度記録が可能な磁気記録媒体及び磁気記録装置を短時間かつ安価に提供する【解決手段】 基板上に少なくとも1層の磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体に対し、マスク手段を介してパルス状のエネルギー線を照射する工程と外部磁場を印加する工程とにより磁化パターンを形成する方法であって、エネルギー線を照射する際に、マスク手段を冷却する磁気記録媒体の磁化パターン形成方法磁化パターン形成装置、及びそれにより磁化パターンを形成した磁気記録媒体並びにそれを用いた磁気記録装置。
請求項（抜粋）：
基板上に少なくとも1層の磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒体に対し、マスク手段を介してパルス状のエネルギー線を照射する工程と外部磁場を印加する工程とにより磁化パターンを形成する方法であって、エネルギー線を照射する際に、マスク手段を冷却することを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。
IPC (4件)：
G11B 5/84 ,  G11B 5/02 ,  G11B 5/596 ,  G11B 21/10
FI (4件)：
G11B 5/84 Z ,  G11B 5/02 C ,  G11B 5/596 ,  G11B 21/10 W
Fターム (15件)：
5D042LA01 ,  5D042MA12 ,  5D091AA10 ,  5D091BB07 ,  5D091CC01 ,  5D091CC11 ,  5D091CC18 ,  5D091GG33 ,  5D091HH11 ,  5D091HH20 ,  5D096WW02 ,  5D112AA05 ,  5D112DD00 ,  5D112GA19 ,  5D112GB01
引用特許：
審査官引用 (15件)
  • 特開昭60-035336
  • 特開平4-034744
  • 特開平1-251612
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