特許
J-GLOBAL ID：200903083696368897
多層膜反射鏡の製造プロセス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 勝広 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-089738
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344621
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 スパッタリング装置を用いる多層膜反射鏡の製造プロセスを提供することで、量産効率を高め、生産性を向上させ、且つ多層膜反射鏡材料の選択範囲を大幅に広げること。【解決手段】 少なくとも、(1)発光素子の透明基板上にスパッタを施すと同時に、第1の反応ガスを導入して第1の屈折率を持つ薄膜を形成する工程と、(2)前工程のスパッタに続けて、導入する反応ガスを第2の濃度または成分のガスに取り替え、第2の屈折率を持つ薄膜を形成する工程と、(3)前2工程を繰り返して行い、隣接する2層の薄膜の屈折率が異なる多層膜反射鏡を形成する工程を含んでなる多層膜反射鏡の製造プロセス。
請求項（抜粋）：
少なくとも、(1)発光素子の透明基板上にスパッタを施すと同時に、第1の反応ガスを導入して第1の屈折率を持つ薄膜を形成する工程と、(2)前記工程(1)に続き、前記第1の反応ガスに替えて第2の反応ガスを導入し、第2の屈折率を持つ薄膜を形成する工程と、(3)前記工程(1)および前記工程(2)を繰り返して行って、隣接する2層の薄膜の屈折率が全て異なる多層膜反射鏡を形成する工程とからなることを特徴とする多層膜反射鏡の製造プロセス。
IPC (3件)：
G02B 5/08
, C23C 14/34
, G21K 1/06
G02B 5/08 C
, G02B 5/08 A
, C23C 14/34 M
, G21K 1/06 D
2H042DA08
, 2H042DA11
, 2H042DA12
, 2H042DA14
, 2H042DC02
, 2H042DE00
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA46
, 4K029BA58
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD09
, 4K029CA06
, 4K029DC02
, 4K029DC05
, 4K029DC35
, 4K029EA05
出願人引用 (3件)
-
米国特許第5,405,710号明細書
-
米国特許第5,814,416号明細書
-
米国特許第6,278,236号明細書
審査官引用 (8件)
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