特許
J-GLOBAL ID：200903083920152994
フォトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-222381
公開番号（公開出願番号）：特開平9-068790
出願日： 1995年08月30日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：
【要約】【課題】一般的な露光装置では照明条件の変更が不可能である。【解決手段】フォトマスク10は透明基板1とこの基板の上面に形成された遮光膜2と下面に形成された多層コーティング膜3とから構成され、照明光の入射角度に対して透過率の変化を生じさせている。入射角度がより大きくなるほど低い透過率となり、孤立コンタクトホールパターンを垂直入射光を強調して照明する。
請求項（抜粋）：
透明基板上に所定のパターンを有し、透過照明により照明され前記所定のパターンを結像面上に形成するフォトマスクにおいて、前記透明基板の表面或いは裏面に入射角度により光の透過率が異なる層を有していることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 573
