特許
J-GLOBAL ID：200903083953435851

基板処理装置、基板処理方法及びノズル

発明者：
宮原 理

宮原 理 について

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浜田 雅仁

浜田 雅仁 について

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木場 幸生

木場 幸生 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-163485
公開番号（公開出願番号）：特開2004-014646
出願日： 2002年06月04日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】基板に付着したミセルや不溶解物等の不純物を除去することができる基板処理装置及び基板処理方法、またこれらに用いられるリンス処理用のノズルを提供すること。【解決手段】現像液が供給された基板に対し、ノズル55の主孔55bと副孔55cからリンス液を吐出すれば、基板上で攪乱作用を発生させることができ、この気泡が不純物に応力を与えることで当該不純物を除去することが可能となる。しかも、このリンス処理は従来までのように処理液を洗い流す作用も兼ねているため、処理時間を増加させることはない。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
基板を保持する保持部と、 保持部に保持された基板に処理液を供給する手段と、 処理液が供給された基板に対し第1の液と第2の液とを吐出して前記処理液を攪乱し基板に付着した不純物を除去するとともに、前記処理液を洗い流すリンス手段と を具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L21/027 ,  B05B1/20 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D3/00 ,  B05D3/10 ,  G03F7/30
FI (7件)：
H01L21/30 569C ,  B05B1/20 101 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D3/00 A ,  B05D3/10 F ,  G03F7/30 502
Fターム (34件)：
2H096AA25 ,  2H096GA17 ,  2H096GA29 ,  2H096GA31 ,  4D075AC01 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075AC91 ,  4D075BB65Z ,  4D075DA08 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EA45 ,  4F033AA04 ,  4F033BA03 ,  4F033DA01 ,  4F033DA05 ,  4F033EA01 ,  4F033EA06 ,  4F033NA01 ,  4F042AA07 ,  4F042BA00 ,  4F042CC04 ,  4F042CC09 ,  4F042DA01 ,  4F042DF09 ,  4F042DF32 ,  4F042EB05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB18 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-309491   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 回転式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-238575   出願人：住友精密工業株式会社
  • 回転式湿式処理方法および回転式湿式処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-130241   出願人：ソニー株式会社
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