特許
J-GLOBAL ID：200903084055734890

極端紫外光源装置

発明者：
星野 秀往

星野 秀往 について

, 
薮 隆之

薮 隆之 について

, 
住谷 明

住谷 明 について


出願人/特許権者：
株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について


代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-058229
公開番号（公開出願番号）：特開2008-226462
出願日： 2007年03月08日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】レーザビームが照射されなかったターゲット物質を有効活用することが可能なEUV光源装置を提供する。【解決手段】このEUV光源装置は、EUV光の生成が行われるEUV生成チャンバ1と、EUV生成チャンバ1内にターゲット物質として液体状の金属を供給するターゲット物質供給部2と、EUV生成チャンバ1内に供給されたターゲット物質にレーザ光を照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源5と、プラズマから放射されるEUV光を集光する集光ミラー10と、EUV生成チャンバ1内に供給されたターゲット物質の内のレーザ光が照射されなかったターゲット物質を精製するためのターゲット物質精製槽22とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ターゲット物質にレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、 極端紫外光の生成が行われる極端紫外光生成チャンバと、 前記極端紫外光生成チャンバ内にターゲット物質として液体状の金属を供給するターゲット物質供給手段と、 前記極端紫外光生成チャンバ内に供給されたターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源と、 前記プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学系と、 前記極端紫外光生成チャンバ内に供給されたターゲット物質の内のレーザビームが照射されなかったターゲット物質を精製して前記ターゲット物質供給手段に供給するターゲット物質精製手段と、 を具備する極端紫外光源装置。
IPC (2件)：
H05G 2/00 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S
Fターム (6件)：
4C092AA06 ,  4C092AB16 ,  4C092AB30 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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