極紫外(EUV)線を発生するEUV線源

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 佐久間滋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-169035
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134363
出願日： 2003年06月13日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】安定した固体のフィラメント状標的を生じさせるEUV線源を提供する。【解決手段】線源は、ガス標的材料を液状に極低温冷却する凝縮室を有するノズル組立体を含む。液体標的材料はフィルタによってろ過され、圧力下に保持室に送られる。保持室は、フィラメント状標的がノズル組立体から放射される前に、標的材料中に混入した気泡が液体に凝縮されるのを可能にする。標的材料は、ノズルの出口管を強制的に通過されてノズル組立体から液体標的流れとして放射される。熱シールドが出口管の周囲に設けられ、液体標的材料を極低温状態に維持する。液体標的流れは凍結し、レーザ源からのレーザビームにより気化されてEUV線を発生する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

極紫外(EUV;extreme ultraviolet)線を発生するEUV線源であって、ガス標的材料を液体標的材料に極低温冷却する凝縮器を有する凝縮室と、該液体標的材料を受容しかつ該標的材料を圧力下に保持して該液体標的材料に混入した気泡を液体に変換させる保持室と、該保持室に連結されて該保持室から該液体標的材料を受容しかつノズル組立体から標的領域に向けて該標的材料の安定した流れを放射する出口開口部とを含む、前記ノズル組立体と、該標的領域へレーザビームを方向づけて該標的材料を気化させ、EUV線を放射するプラズマを生じさせるレーザとを備える、EUV線源。

IPC (3件)：

H05G2/00 , H01L21/027 , H05H1/24

FI (3件)：

H05G1/00 K , H05H1/24 , H01L21/30 531S

Fターム (6件)：

4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AB21 , 4C092AB30 , 4C092BD17 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭59-051090
X線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-259055 出願人：株式会社ニコン
塗布膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-170560 出願人：東京エレクトロン株式会社

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