特許
J-GLOBAL ID:200903080692180193
ポジ型感放射線性樹脂組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-028623
公開番号(公開出願番号):特開2000-298349
出願日: 2000年02月07日
公開日(公表日): 2000年10月24日
要約:
【要約】【課題】 マスク寸法より細いレジストパターンを高感度で形成することができ、焦点深度が大きく、側壁あれがなく形状の良好なレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の該水酸基の少なくとも一部が酸分解性保護基で保護された樹脂及び(B)活性光線または放射線により分解して酸を発生する化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物において、樹脂(A)が酸分解性保護基として下記一般式(I)で表される基を必須成分として含み、【化1】(ただし、R1 及びR2 は独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアルコキシ基を表し、R3 は置換されていても良いアルキル基を表す。)かつ、該樹脂組成物が(C)脂肪族多価アルコール類を該樹脂組成物の固形分に対して0.5〜20重量%含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
請求項(抜粋):
(A)フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の該水酸基の少なくとも一部が酸分解性保護基で保護された樹脂及び(B)活性光線または放射線により分解して酸を発生する化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物において、樹脂(A)が酸分解性保護基として下記一般式(I)で表される基を必須成分として含み、【化1】(ただし、R1 及びR2 は独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアルコキシ基を表し、R3 は置換されていても良いアルキル基を表す。)かつ、該樹脂組成物が(C)脂肪族多価アルコール類を該樹脂組成物の固形分に対して0.5〜20重量%含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (8件)
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-052637
出願人:日本合成ゴム株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-185812
出願人:信越化学工業株式会社
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感光性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-023935
出願人:株式会社東芝
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パターン形成材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-351957
出願人:信越化学工業株式会社
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フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-233670
出願人:住友化学工業株式会社
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-301054
出願人:日本ゼオン株式会社
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パターン形成材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-187744
出願人:信越化学工業株式会社
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感光性材料及び感光性記録材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-254767
出願人:ブラザー工業株式会社
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