特許
J-GLOBAL ID:200903084653404918

有機薄膜素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 尾身 祐助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-142672
公開番号(公開出願番号):特開2002-332567
出願日: 2001年05月14日
公開日(公表日): 2002年11月22日
要約:
【要約】【課題】 有機EL膜等の有機膜の表面を荒らすことなく電極膜を形成できるようにする。【解決手段】 有機EL膜である発光層4上に陰電極5をスパッタ法にて形成する際に、所定距離隔てて対向配置した一対のターゲットの各々の周辺の前方に電子を反射する反射電極を設けると共に、磁界発生手段により各ターゲットの周縁部の近傍にその面に平行な部分を有する平行磁界を形成した対向ターゲット式スパッタ装置を用いる。
請求項(抜粋):
有機化合物からなる機能性有機層上に薄膜層を積層した積層構成を有する有機薄膜素子の製造方法において、該薄膜層を、所定距離隔てて対向配置した一対のターゲットの各々の周辺の前方に電子を反射する反射電極を設けると共に、磁界発生手段により各ターゲットの周縁部の近傍にその面に平行な部分を有する平行磁界を形成した対向ターゲット式スパッタ装置により形成することを特徴とする有機薄膜素子の製造方法。
IPC (4件):
C23C 14/12 ,  C23C 14/35 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (4件):
C23C 14/12 ,  C23C 14/35 E ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (19件):
3K007AB02 ,  3K007AB03 ,  3K007AB06 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA03 ,  4K029BA50 ,  4K029BC03 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC29 ,  4K029JA00
引用特許:
審査官引用 (6件)
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