特許
J-GLOBAL ID:200903084712074463

光導波路装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-330623
公開番号(公開出願番号):特開2007-139900
出願日: 2005年11月15日
公開日(公表日): 2007年06月07日
要約:
【課題】光伝搬損失低下の一因となる余剰層の形成を低減する光導波路装置の製造方法を提供することを目的とする。また、余剰層の形成を低減しつつ、屈折率、口径、形状などが異なるコアを一つの光導波路に設ける新規な光導波路装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光導波路装置の製造方法は、クラッド表面に設けられた溝にコアを形成する工程を有する光導波路装置の製造方法において、前記溝内にマイクロディスペンサーを用いてコア材料を充填して、コアを形成することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
クラッド表面に設けられた溝にコアを形成する工程を有する光導波路装置の製造方法において、前記溝内にマイクロディスペンサーを用いてコア材料を充填して、コアを形成することを特徴とする光導波路装置の製造方法。
IPC (1件):
G02B 6/13
FI (1件):
G02B6/12 M
Fターム (10件):
2H147AA01 ,  2H147EA13B ,  2H147EA17A ,  2H147EA18B ,  2H147EA19A ,  2H147EA20A ,  2H147FA17 ,  2H147FC08 ,  2H147FE02 ,  2H147GA19
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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