特許
J-GLOBAL ID：200903084811612400
描画データ補正機能を有する描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
, 野中 剛
, 虎山 滋郎
, 坪内 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-120756
公開番号（公開出願番号）：特開2006-301155
出願日： 2005年04月19日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】 複雑な基板の変形に応じて、正確に描画データを補正可能な描画装置を提供する。【解決手段】 パターンを描画する基板が複雑に変形して第2変形基板46が生じると、本来正方形であるべきパターンの描画領域は、第1〜第4アライメントマークM1〜M4を結んだ四角形である第2変形描画領域47となる。そこで描画すべきパターンの位置と形状を示す描画データに、スケーリング補正と軸傾き補正を施し、平行四辺形の第1変形描画領域43に対応したデータを生成する。さらに、2次元の座標系のある点を、そのX座標、もしくはY座標の座標値に、他方の座標値に比例した値を加えた新たな点に変換するグラデュアル・スケーリングによって、第2変形描画領域47に対応した補正描画データを生成する。描画装置は、補正描画データに基づいて、第2変形描画領域47内にパターンを描画する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
被描画体における四角形の描画領域の本来の位置と実際の位置とに基づいて、前記被描画体に描画するパターンを示す描画データを処理するデータ処理装置であって、
実際の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形の隣接する二辺を有し、前記四角形よりも本来の位置における前記描画領域の輪郭を示す四角形に形状が近い平行四辺形が、前記パターンが描画される前記描画領域の輪郭となるように、前記描画データを補正して補正描画データとする第1の描画データ補正手段を備えることを特徴とするデータ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 505
, G03F9/00 Z
2H097AA03
, 2H097BB10
, 2H097CA17
, 2H097KA13
, 2H097KA20
, 2H097LA09
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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