特許
J-GLOBAL ID：200903019436198653

被覆エンドミル及び被覆用ターゲット

発明者：
石川 剛史

石川 剛史 について


出願人/特許権者：
日立ツール株式会社

日立ツール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-034516
公開番号（公開出願番号）：特開2004-268250
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】 Cr系皮膜の欠点である硬度を高めることにより耐摩耗性を改善し、その結果優れた寿命を発揮する被覆エンドミル、更に、本発明の被覆エンドミルを効率よく得ることのできるターゲットを提供することを目的とする。【解決手段】 アーク放電式イオンプレーティング法により形成した硬質皮膜であり、該硬質皮膜はAlxCr1-x-ySiy(但し、x及びyはそれぞれ原子比率で0.45≦x≦0.75、0≦y≦0.2を満たす。)により表される金属成分と、N1-α-β-γBαCβOγ(但し、α、β及びγはそれぞれ原子比率で、0≦α≦0.12、0≦β≦0.2、0.005≦γ≦0.25を満たす。)により表される非金属成分とからなる組成を有し、該エンドミルの基体は高速度鋼からなり、VとCoの和が重量%で10≦(V+Co)≦20、Crが重量%で3.8≦Cr≦4.5、としたことを特徴とする被覆エンドミルである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被覆エンドミルにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により形成した硬質皮膜であり、該硬質皮膜はAlxCr1-x-ySiy(但し、x及びyはそれぞれ原子比率で0.45≦x≦0.75、0≦y≦0.2を満たす。)により表される金属成分と、N1-α-β-γBαCβOγ(但し、α、β及びγはそれぞれ原子比率で、0≦α≦0.12、0≦β≦0.2、0.005≦γ≦0.25を満たす。)により表される非金属成分とからなる組成を有し、X線回折における(111)面の回折強度をI(111)、(200)面の回折強度をI(200)とした時、I(200)/I(111)の値が4以下からなり、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に、少なくともCr、Al及び/又はSiと酸素との結合エネルギーを有し、該エンドミルの基体は高速度鋼からなり、VとCoの和が重量%で10≦(V+Co)≦20、Crが重量%で3.8≦Cr≦4.5、としたことを特徴とする被覆エンドミル。
IPC (4件)：
B23C5/16 ,  B23P15/28 ,  C23C14/06 ,  C23C14/32
FI (4件)：
B23C5/16 ,  B23P15/28 A ,  C23C14/06 L ,  C23C14/32 Z
Fターム (10件)：
4K029AA04 ,  4K029BA43 ,  4K029BA53 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BA64 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029DD06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (16件)
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