特許
J-GLOBAL ID：200903085104437916
ポリイミド前駆体、感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-190265
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080354
出願日： 1998年07月06日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 半導体素子の表面コート膜等の保護膜として好適なポリイミド前駆体、これを含む感光性ポリイミド前駆体組成物並びに水性現像液を用い、良好なポリイミドパターン形状が得られ、製造コストが削減できるパターン製造法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)と一般式(II)で表される構成単位を有するポリイミド前駆体、この前駆体と、増感剤又は光開始助剤を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物並びにこの前駆体組成物を用いてできる被膜に、光を照射した後、塩基性水溶液を用いて現像するパターン製造法。(式中、R1は4価の有機基、R2は3価又は4価の有機基、2つのR3は各々独立に1価の有機基、Aは酸性基、nは1又は2を示し、R4は4価の有機基、2つのR5は各々独立に1価の有機基、R6、R7、R8及びR9は各々独立に水素原子又は1価の有機基でこれら4つのうち少なくとも2つは1価の有機基を示す)
請求項（抜粋）：
一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基、R2は3価又は4価の有機基、2つのR3は各々独立に1価の有機基、Aは酸性を示す基、nは1又は2を示す)で表される構成単位及び一般式(II)【化2】(式中、R4は4価の有機基、2つのR5は各々独立に1価の有機基、R6、R7、R8及びR9は各々独立に水素原子又は1価の有機基であってこれら4つのうち少なくとも2つは1価の有機基を示す)で表される構成単位を有してなるポリイミド前駆体。
IPC (6件)：
C08G 73/10
, C08L 79/08
, H01L 21/027
, H01L 21/312
, H01L 21/768
, G03F 7/038 504
C08G 73/10
, C08L 79/08 A
, H01L 21/312 B
, G03F 7/038 504
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/90 S
