処理液供給機構および処理液供給方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-076279
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347205
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：

【要約】【課題】レジスト液等の処理液の吐出レートを高精度で制御することができる処理液供給機構および処理液供給方法を提供すること。【解決手段】処理液L1を供給するための処理液供給機構は、処理液L1を供給する処理液供給源101と、処理液L1を吐出するための処理液吐出ノズル90a,90b,90cと、処理液供給源101と処理液吐出ノズル90a,90b,90cとを繋ぐ配管114,115,115a,115b,115cと、配管114,115に設けられ、処理液吐出ノズル90a,90b,90cから処理液L1を吐出するためのポンプ103と、ポンプ103から処理液吐出ノズル90a,90b,90cへ至るまでの間の所定位置で処理液の圧力を検出する圧力検出手段131,132a,132b,132cと、圧力検出手段131,132a,132b,132cによる検出値と、予め求められている処理液L1の圧力および処理液L1の吐出レートの関係とに基づいて、処理液の吐出レートが所定の値になるように、ポンプ103の内圧を制御する制御手段135とを具備する。

請求項（抜粋）：

処理液を供給するための処理液供給機構であって、処理液を供給する処理液供給源と、処理液を吐出するための処理液吐出ノズルと、前記処理液供給源と前記処理液吐出ノズルとを繋ぐ配管と、前記配管に設けられ、前記処理液吐出ノズルから処理液を吐出するためのポンプと、前記ポンプから前記処理液吐出ノズルへ至るまでの間の所定位置で処理液の圧力を検出する圧力検出手段と、前記圧力検出手段による検出値と、予め求められている処理液の圧力および処理液の吐出レートの関係とに基づいて、処理液の吐出レートが所定の値になるように、前記ポンプの内圧を制御する制御手段とを具備することを特徴とする処理液供給機構。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B05C 5/00 101 , B05C 11/10 , G03F 7/16 502 , B05C 11/08

FI (5件)：

B05C 5/00 101 , B05C 11/10 , G03F 7/16 502 , B05C 11/08 , H01L 21/30 564 C

Fターム (24件)：

2H025AB16 , 2H025EA05 , 4F041AA06 , 4F041AB02 , 4F041BA13 , 4F041BA31 , 4F041BA34 , 4F041BA56 , 4F042AA07 , 4F042BA06 , 4F042CB02 , 4F042CB24 , 4F042CC01 , 4F042CC06 , 4F042EB05 , 4F042EB09 , 4F042EB11 , 4F042EB12 , 4F042EB13 , 4F042EB17 , 4F042EB24 , 5F046JA01 , 5F046JA02 , 5F046JA03

引用特許：

審査官引用 (6件)

成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-359081 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-314951 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-007919 出願人：東京エレクトロン株式会社

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