基板現像方法および現像装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：杉谷勉 , 戸高弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-044042
公開番号（公開出願番号）：特開2008-210873
出願日： 2007年02月23日
公開日（公表日）： 2008年09月11日
要約：

【課題】現像液が基板上に残ることを抑制することができる基板現像方法および現像装置を提供する。【解決手段】基板に現像液を供給し(ステップS1)、現像液が供給された基板にリンス液を供給して現像液を洗い流し(ステップS2)、第1の回転乾燥を行う(ステップS3)。このように基板上の現像液は微量してから、CO2溶解液を基板に供給する(ステップS4)。基板上の微量の現像液はCO2溶解液と中和する。この中和反応によって生成された生成物(塩)はCO2溶解液に容易に溶解するので、CO2溶解液とともに効率よく洗い流される。したがって、基板上に現像液が残ることを抑制することができる。この結果、現像液残りによる現像欠陥の発生を防止することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板を現像する基板現像方法において、基板に現像液を供給する現像過程と、現像液を中和するための中和物質を含んだ処理液を基板に供給して、現像液を中和して基板外へ除去する中和除去過程と、を備えていることを特徴とする基板現像方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/32

FI (4件)：

H01L21/30 569F , H01L21/30 569E , G03F1/08 L , G03F7/32 501

Fターム (12件)：

2H095BB15 , 2H096AA24 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096GA17 , 2H096GA29 , 2H096JA04 , 5F046LA03 , 5F046LA12 , 5F046LA14

引用特許：

出願人引用 (5件)

基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-123977 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭60-243655
基板処理方法および基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-294144 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (4件)

特開昭60-243655
基板処理方法および基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-294144 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
フォトレジストの現像方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-205400 出願人：日本電気環境エンジニアリング株式会社

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