特許
J-GLOBAL ID：200903002186695990

基板処理方法および基板処理装置

発明者：
柳沢 暢生

柳沢 暢生 について

, 
木瀬 一夫

木瀬 一夫 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-294144
公開番号（公開出願番号）：特開2005-064312
出願日： 2003年08月18日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 基板を現像処理した後に水洗する基板処理において、水洗に使用される純水の量を低減させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板Wの表面に形成された露光後のレジスト膜を現像液により現像処理する現像処理部10と、現像処理後の基板を水洗する水洗処理部12とを備え、水洗処理部のスプレイノズル28へ供給される洗浄水38を貯留する貯水槽40にガス供給用配管82を連通接続し、貯水槽内へ炭酸ガスを供給して洗浄水中に二酸化炭素を溶解させ、二酸化炭素が溶解した水をスプレイノズルへ供給する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理した後に基板を水洗する基板処理方法において、 二酸化炭素を溶解させた水を使用して現像処理後の基板を水洗することを特徴とする基板処理方法。
IPC (5件)：
H01L21/027 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  G03F7/32 ,  H01L21/304
FI (6件)：
H01L21/30 569E ,  B08B3/02 C ,  B08B3/08 Z ,  G03F7/32 501 ,  H01L21/304 643B ,  H01L21/304 648K
Fターム (14件)：
2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096GA17 ,  2H096GA18 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB24 ,  3B201BB62 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB15 ,  5F046LA12
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-079321   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (9件)
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