特許
J-GLOBAL ID：200903085490004158
マイクロリソグラフィーの投射露光装置、光学システム、マイクロリソグラフィー投射レンズの製造方法、およびマイクロリソグラフィーによる構造化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-589877
公開番号（公開出願番号）：特表2004-525527
出願日： 2002年05月04日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
投射露光装置、特に157nmまたは193nmで、像側の開口数NAが0.8〜0.95で、フッ化物クリスタルレンズ(43,43)を備えた投射露光装置において、フッ化物結晶レンズ(43,43)を光軸(O)のまわりで相対回転させることにより、および/または、瞳面(P)付近に配置した補正要素(44)により、フッ化物結晶レンズ(43,43)の角度依存複屈折の効果を減少させる。
請求項（抜粋）：
マイクロリソグラフィーの投射露光装置であって、
a)光源(1)、特に250nm〜100nmの範囲の波長を持った光源(1)と、
b)照射システム(2)と、
c)マスク位置決めシステム(31)と、
d)有利には0.7〜0.95の範囲の像側の開口数(NA)と、システムアパーチャー面(P)と、像面(5)とを備えた投射レンズ(4)にして、透過角(α)に依存した複屈折を有する材料から成り特に像面(5)付近に配置される少なくとも1つのレンズ(42,43)を含んでいる前記投射レンズ(4)と、
e)対象物位置決めシステム(51)と
を備えた前記投射露光装置において、
照射システム(2)内または投射レンズ(4)内に、位置依存性偏光回転作用または種々の位置依存性複屈折作用を有し、且つ少なくとも1つのレンズ(42,43)によって像面(5)内に生じた複屈折効果を少なくとも部分的に補正する光学要素(44;144;244;344;444;544;644;744;844;944)が瞳面(P)付近に設けられていることを特徴とする投射露光装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G02B7/02
, G03F7/20
H01L21/30 515D
, G02B7/02 C
, G03F7/20 501
2H044AC01
, 2H097BA01
, 2H097BA10
, 2H097EA01
, 5F046BA03
, 5F046CB25
, 5F046DA12
