特許
J-GLOBAL ID：200903085848091724

熱処理装置及びその洗浄方法

発明者：
齋藤 幸正

齋藤 幸正 について

, 
村田 等

村田 等 について

, 
山本 博之

山本 博之 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 木村 満 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173542
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223430
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】 反応室内部に付着した反応生成物を短時間で容易に除去する。【解決手段】 成膜処理の際、反応管11内の圧力はコンビネーションバルブCVにより制御され、炭化水素等はホットディスクトラップTRP1で除去され、塩化アンモニウムは切替トラップTRP2で除去される。次いで、反応室11と配管63aとを100°C〜150°Cに加熱し、コンビネーションバルブCVにより配管63a内を10kPa〜30kPaの圧力に維持しつつ、排気ガスのコンダクタンスや温度の低下が起きる箇所に、インレット64a〜64cからガス源35dのフッ化水素を供給し、洗浄する。また、コンビネーションバルブCVにより配管63a内を0.1kPa〜30kPaのあいだで変動させながらフッ化水素を供給し、洗浄してもよい。さらに、洗浄終了後、アルコキシシランを所定時間供給することで、洗浄に用いたフッ化水素を効率よく除去する。
請求項（抜粋）：
被処理体を収納可能な反応室と、前記反応室に接続された排気管を有し、反応室内のガスを排出するための排気手段と、フッ化水素のガス源に接続されるHF用配管と、前記HF用配管に設置されて前記ガス源からのフッ化水素ガスの供給を制御するHF用バルブと、前記ガス源から前記HF用配管を通じて供給されたフッ化水素を前記排気管内及び/又は前記反応室内に導くインレットと、を備えるHFガス供給手段と、前記排気管を加熱する加熱手段と、前記排気管内の圧力を制御する圧力制御手段と、を備えることを特徴とする熱処理装置。
IPC (6件)：
H01L 21/205 ,  B01J 3/00 ,  B01J 19/00 ,  H01L 21/22 511 ,  B08B 9/40 ,  H01L 21/28 301
FI (6件)：
H01L 21/205 ,  B01J 3/00 N ,  B01J 19/00 H ,  H01L 21/22 511 S ,  B08B 9/40 ,  H01L 21/28 301 R
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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