特許
J-GLOBAL ID:200903085880151348
窒化シリコン固体表面保護膜及びその製造方法とホール素子
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354605
公開番号(公開出願番号):特開2002-158226
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月31日
要約:
【要約】【課題】すぐれた耐水性、耐薬品性、イオンブロッキング性を有し、かつ低ストレスで信頼性の高い窒化シリコン固体表面保護膜を提供する。【解決手段】固体(a)表面上にプラズマ-CVD法によって保護膜として形成する少なくとも2層以上の積層した窒化シリコン膜において、前記固体(a)表面に接する窒化シリコン層(f)と、前記保護膜の表面側の窒化シリコン層(h)がそれぞれ異なる特性を有するように形成され、その保護膜が、3種の異なる特性を有する第1、第2、第3の窒化シリコン層(f)(g)(h)を積層することにより形成されている。
請求項(抜粋):
固体表面上にプラズマ-CVD法によって保護膜として形成する少なくとも2層以上の積層した窒化シリコン膜において、前記固体表面に接する窒化シリコン層と、前記保護膜の表面側の窒化シリコン層がそれぞれ異なる特性を有するように形成されていることを特徴とする窒化シリコン固体表面保護膜。
IPC (3件):
H01L 21/318
, C23C 16/42
, H01L 43/06
FI (4件):
H01L 21/318 M
, H01L 21/318 B
, C23C 16/42
, H01L 43/06 H
Fターム (21件):
4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA18
, 4K030BA40
, 4K030BB12
, 4K030CA04
, 4K030FA01
, 4K030JA05
, 4K030LA11
, 4K030LA15
, 5F058BA05
, 5F058BA07
, 5F058BA08
, 5F058BD01
, 5F058BD02
, 5F058BD10
, 5F058BF07
, 5F058BF23
, 5F058BF30
, 5F058BF37
, 5F058BJ03
引用特許:
審査官引用 (8件)
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-097176
出願人:株式会社リコー, リコー応用電子研究所株式会社
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特開昭64-050535
-
絶縁膜の構造とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-099991
出願人:日本電気株式会社
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