高分子グラフト基板製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：関根武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-108692
公開番号（公開出願番号）：特開2003-301059
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】【課題】電子・電気素子、医療診断用素子(遺伝子検出剤(DNAチップ)、生体機能検出剤(バイオチップ))、生物素子(ニューロン回路、神経回路)の製造に用いることのできる、生産性に優れると共に有機物含有廃棄物等の廃棄物の低減化を可能にする、高分子グラフト基板製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の高分子グラフト基板製造方法は、紫外線を照射することにより有機酸基を形成し得る感紫外線カップリング剤で基板を被覆して表面修飾基板を作製する工程;上記表面修飾基板に紫外線を照射して基板表面に有機酸基を形成させる工程;上記基板表面に形成された有機酸基を活性化させる化学処理を施す工程;及び活性化された有機酸基と化学反応し得る求核性官能基を含み、該求核性官能基と同種もしくは異種の多価官能基から構成される化合物を、上記有機酸基と化学反応させる工程を含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(a)紫外線を照射することにより有機酸基を形成し得る感紫外線カップリング剤で基板を被覆して表面修飾基板を作製する工程;(b)上記表面修飾基板に紫外線を照射して基板表面に有機酸基を形成させる工程;(c)上記基板表面に形成された有機酸基を活性化させる化学処理を施す工程;及び(d)活性化された有機酸基と化学反応し得る求核性官能基を含み、該求核性官能基と同種もしくは異種の多価官能基から構成される化合物を、上記有機酸基と化学反応させる工程を含むことを特徴とする高分子グラフト基板製造方法。

IPC (7件)：

C08J 7/18 CEZ , C08J 7/18 CEP , C08J 7/18 CER , G03F 7/004 521 , G01N 33/53 , G01N 37/00 102 , C08L101:00

FI (7件)：

C08J 7/18 CEZ , C08J 7/18 CEP , C08J 7/18 CER , G03F 7/004 521 , G01N 33/53 M , G01N 37/00 102 , C08L101:00

Fターム (27件)：

2H025AA01 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BH04 , 2H025DA18 , 2H025FA03 , 4F073AA02 , 4F073AA03 , 4F073AA07 , 4F073BA03 , 4F073BA18 , 4F073BA19 , 4F073BA22 , 4F073BA24 , 4F073BA26 , 4F073BA31 , 4F073BB01 , 4F073BB02 , 4F073CA45 , 4F073EA59 , 4F073EA60 , 4F073EA64 , 4F073FA00

引用特許：

審査官引用 (9件)

含窒素高分子化合物の固定化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-317119 出願人：新技術事業団
有機含硫基シラン修飾酸化物と修飾表面光パターニング酸化物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-232082 出願人：新技術事業団
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公報種別：公開公報出願番号：特願平5-222440 出願人：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

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