特許

J-GLOBAL ID：200903086138981115

基板昇降装置および基板処理装置

発明者： 伊藤 毅
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-219808
公開番号（公開出願番号）：特開2007-036070
出願日： 2005年07月29日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：

【課題】 真空処理装置においても、リフターピンの片当りを生じさせず、安定して基板を昇降させることが可能な基板昇降装置および基板処理装置を提供する。【解決手段】 押上げプレート32の囲繞筒体34は、中空状で天井部34aに開口を有しており、その開口にリフターピン基端部9の下部が挿入される。押上げプレート32の上面32aにはボールベア35が配備され、押上げプレート32に対向する囲繞筒体34の天井部内面34bにはボールベア36が配備される。リフターピン基端部9に設けられたフランジ9aの下面にはボールベア35が当接し、フランジ9aの上面には、ボールベア36が当接することにより、リフターピン基端部9のフランジ9aが挟み込まれるようにしてリフターピン8が支持される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板処理装置の基板載置台に備えられ、基板を昇降させる基板昇降装置であって、 前記基板載置台の基板載置面に対して突没可能に設けられ、基板に当接してこれを昇降させるリフターピンと、 前記リフターピンを昇降変位させる駆動部と、 前記駆動部からの駆動力を前記リフターピンへ伝達する複数の球体と、 を備えたことを特徴とする、基板昇降装置。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H01L21/68 N ,  H01L21/302 101G

Fターム (10件)：

5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004CA05 ,  5F031CA05 ,  5F031HA33 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031PA11

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-131614   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-018302   出願人：東京エレクトロン株式会社
• デチャックの音響検出及びその装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-575998   出願人：ラムリサーチコーポレーション
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-138740   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社