特許
J-GLOBAL ID：200903086239930660
リソグラフィー用下地材
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-244050
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069072
出願日： 1996年08月28日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】コンフォーマル性、反射防止効果に優れ、良好なレジストパターンを形成できるリソグラフィー用下地材を提供すること。【解決手段】重量平均分子量500,000〜2,000,000のアルカリ不溶性アクリル系樹脂及び高吸光性物質、さらに必要に応じ、少なくとも2個の架橋形成官能基をもつトリアジン化合物を含有するリソグラフィー用下地材。
請求項（抜粋）：
重量平均分子量500,000〜2,000,000のアルカリ不溶性アクリル系樹脂及び高吸光性物質を含有するリソグラフィー用下地材。
IPC (5件)：
G03F 7/004 506
, G03F 7/004 501
, G03F 7/033
, G03F 7/11 503
, H01L 21/027
G03F 7/004 506
, G03F 7/004 501
, G03F 7/033
, G03F 7/11 503
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 574
