特許
J-GLOBAL ID:200903086359310940

洗浄装置、洗浄装置を用いた分析装置及び洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  高柴 忠夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-051736
公開番号(公開出願番号):特開2005-241442
出願日: 2004年02月26日
公開日(公表日): 2005年09月08日
要約:
【課題】 分注プローブの外面に付着した残留物及び分注プローブ内面に付着した残留物を要求されるレベル以下となるまで短時間で洗浄する洗浄装置を提供する。【解決手段】 液体の吸引または吐出の少なくともいずれかを行う分注プローブ17を洗浄する分析装置1における分注プローブ17の洗浄装置30であって、分注プローブ17の少なくとも先端を洗浄し、所定の空間を有する洗浄処理部31と、少なくともその先端が洗浄処理部31に位置した分注プローブ17に対して洗浄液を供給する複数の供給口32と、分注プローブ17の少なくとも先端が洗浄処理部31に位置した際、洗浄液を各供給口32に対してそれぞれ供給する洗浄液供給手段34と、洗浄液を排出する排出口35とを備える。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
液体の吸引または吐出の少なくともいずれかを行う分注プローブを洗浄する分析装置における分注プローブの洗浄装置であって、 前記分注プローブの少なくとも先端を洗浄し、所定の空間を有する洗浄処理部と、 少なくともその先端が前記洗浄処理部に位置した前記分注プローブに対して洗浄液を供給する複数の供給口と、 前記分注プローブの少なくとも先端が前記洗浄処理部に位置した際、前記洗浄液を前記各供給口に対してそれぞれ供給する洗浄液供給手段と、 前記洗浄液を排出する排出口とを備えることを特徴とする洗浄装置。
IPC (1件):
G01N35/10
FI (1件):
G01N35/06 F
Fターム (11件):
2G058CB04 ,  2G058CD04 ,  2G058CE08 ,  2G058EA02 ,  2G058EA04 ,  2G058ED03 ,  2G058FB06 ,  2G058FB07 ,  2G058FB12 ,  2G058FB14 ,  2G058FB25
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平8-2858611号公報
  • 分注ノズル洗浄方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-253660   出願人:ダイキン工業株式会社
審査官引用 (6件)
  • 洗浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-074510   出願人:オリンパス光学工業株式会社
  • 特開昭62-242858
  • プローブ洗浄槽
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-286731   出願人:株式会社東芝
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