ナノインプリント用組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小林浩 , 片山英二 , 古橋伸茂 , 鈴木康仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-179299
公開番号（公開出願番号）：特開2008-007623
出願日： 2006年06月29日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：

【課題】耐熱性が高く、形成されたレリーフパターンが加熱により容易に消滅しないナノプリント用組成物を提供する。また、ナノプリント用組成物におけるレリーフパターンの形成を容易かつ効率的に生産する。【解決手段】ポリアミド酸(B)とエポキシ樹脂(C)を含むナノインプリント用組成物により、上記課題を解決する。また、ポリエステル-ポリアミド酸(A1)およびエポキシ樹脂(C)を含むナノインプリント用組成物により上記課題を解決する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ポリアミド酸(B)とエポキシ樹脂(C)を含むナノインプリント用組成物。

IPC (5件)：

C08G 59/42 , H01L 21/027 , B82B 3/00 , C08G 73/10 , C09D 11/10

FI (5件)：

C08G59/42 , H01L21/30 502D , B82B3/00 , C08G73/10 , C09D11/10

Fターム (67件)：

4J036AC02 , 4J036AD08 , 4J036AG06 , 4J036AJ08 , 4J036DB17 , 4J036DC10 , 4J036DC31 , 4J036DC35 , 4J036DC41 , 4J036FA13 , 4J036FB14 , 4J036JA01 , 4J036KA01 , 4J039AE05 , 4J039AE08 , 4J039EA37 , 4J039EA40 , 4J039EA48 , 4J039GA06 , 4J043PB15 , 4J043PC145 , 4J043PC146 , 4J043QB26 , 4J043RA06 , 4J043RA24 , 4J043RA35 , 4J043SA06 , 4J043SA71 , 4J043SA83 , 4J043TA23 , 4J043UA022 , 4J043UA032 , 4J043UA042 , 4J043UA051 , 4J043UA082 , 4J043UA092 , 4J043UA122 , 4J043UA131 , 4J043UA132 , 4J043UA142 , 4J043UA151 , 4J043UA161 , 4J043UA232 , 4J043UA262 , 4J043UA381 , 4J043UA581 , 4J043UA591 , 4J043UA711 , 4J043UA762 , 4J043UA772 , 4J043UB061 , 4J043UB121 , 4J043UB122 , 4J043UB131 , 4J043UB281 , 4J043UB282 , 4J043UB301 , 4J043UB302 , 4J043UB351 , 4J043UB352 , 4J043WA09 , 4J043WA23 , 4J043XA19 , 4J043ZA05 , 4J043ZA12 , 4J043ZB03 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポリイミド樹脂微細パターンの成形方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-303379 出願人：株式会社カネカ

審査官引用 (6件)

ポリイミド樹脂微細パターンの成形方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-303379 出願人：株式会社カネカ
ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-078072 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立インダストリイズ
ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-077295 出願人：株式会社日立製作所

全件表示

前のページに戻る