特許
J-GLOBAL ID：200903023797596197
ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-077295
公開番号（公開出願番号）：特開2004-288783
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】ナノプリント法において、高アスペクト比のピラーの転写を行うことを目的とする。【解決手段】基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパを、加熱・加圧するナノプリント装置において、前記スタンパが剥離材を転写・塗布する機構を有することを特徴とするナノプリント装置、及び該ナノプリント装置を用いる微細構造転写方法。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパを、加熱・加圧するナノプリント装置において、
前記スタンパ凸部のみに剥離材を形成する機構を有することを特徴とするナノプリント装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
