特許
J-GLOBAL ID:200903086855027590

アミン・アルキル(ジアリール)ボラン錯体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-266322
公開番号(公開出願番号):特開2009-137936
出願日: 2008年10月15日
公開日(公表日): 2009年06月25日
要約:
【課題】簡便な操作により高選択率かつ高収率・高純度で、工業的に有利である、アミン・アルキル(ジアリール)ボラン錯体の新規な製造方法を提供すること。【解決手段】ある特定のアルキル(トリアリール)ボレート化合物と、ある特定のアミンまたはある特定のアンモニウム塩とを反応させる、下記式で表されるアミン・アルキル(ジアリール)ボラン錯体の製造方法。Ar2BR1・NR2R3R4(式中、Arは、置換していてもよいアリール基または複素環基を表し、R1は、置換していてもよいアルキル基またはアラルキル基を表し、R2、R3およびR4は、それぞれ独立に、水素原子、置換していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、R3およびR4は、置換していてもよい環をともに形成してもよく、またR2、R3およびR4は、置換していてもよい複素環をともに形成してもよい。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(II)で表わされるアルキル(トリアリール)ボレート化合物と、下記式(III)で表わされるアミンまたは下記式(IV)で表わされるアンモニウム塩とを反応させることを特徴とする、下記式(I)で表されるアミン・アルキル(ジアリール)ボラン錯体の製造方法。 Ar2BR1・NR2R3R4 ...(I) Ar3B-R1・X+ ...(II) NR2R3R4 ...(III) Y-・HN+R2R3R4 ...(IV) (式中、Arは、置換していてもよいアリール基または複素環基を表し、R1は、置換し ていてもよいアルキル基またはアラルキル基を表し、R2、R3およびR4は、それぞれ独 立に、水素原子、置換していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、X+は、カウンターカチオンを表し、Yは、酸残基を表 す。なお、R3およびR4は、置換していてもよい環をともに形成してもよく、またR2、 R3およびR4は、置換していてもよい複素環をともに形成してもよい。)
IPC (1件):
C07F 5/02
FI (1件):
C07F5/02 A
Fターム (4件):
4H048AA02 ,  4H048AC90 ,  4H048VA75 ,  4H048VB10
引用特許:
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
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