特許
J-GLOBAL ID：200903086960823084

細菌の増殖を制御する化合物及びその応用

発明者：
野村 暢彦

野村 暢彦 について

, 
内山 裕夫

内山 裕夫 について

, 
豊福 雅典

豊福 雅典 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 筑波大学

国立大学法人 筑波大学 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  木元 克輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-066616
公開番号（公開出願番号）：特開2009-220007
出願日： 2008年03月14日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】脱窒に直接影響を及ぼす因子を見出し、それを利用した排水処理装置及び排水処理方法を提供すること。【解決手段】三価の鉄イオンは脱窒菌の増殖を促進する、脱窒に直接影響を及ぼす因子である。本発明の排水処理装置100は、導入された排水中の硝酸イオン及び/又は亜硝酸イオンを脱窒菌により亜酸化窒素及び/又は窒素に還元処理する脱窒槽10と、前記脱窒槽内に三価の鉄イオンからなる脱窒菌の増殖促進剤を供給する増殖促進剤供給手段20とを備えることを特徴とする。三価の鉄イオンにより活性化された脱窒菌は効率よく硝酸イオン及び/又は亜硝酸イオンを亜酸化窒素及び/又は窒素に還元する。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
三価の鉄イオンからなる脱窒菌の増殖促進剤。
IPC (7件)：
C02F 3/34 ,  C02F 3/28 ,  C02F 3/00 ,  C02F 1/50 ,  A01N 43/40 ,  A01N 43/42 ,  A01P 3/00
FI (13件)：
C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101A ,  C02F3/28 A ,  C02F3/00 D ,  C02F3/00 G ,  C02F1/50 520P ,  C02F1/50 532C ,  C02F1/50 532D ,  C02F1/50 532L ,  C02F1/50 560H ,  A01N43/40 101M ,  A01N43/42 101 ,  A01P3/00
Fターム (25件)：
4B024AA17 ,  4B024BA08 ,  4B024CA01 ,  4B024DA05 ,  4B024DA06 ,  4B024DA09 ,  4B024EA04 ,  4B024GA11 ,  4B024HA08 ,  4D027BA04 ,  4D027CA00 ,  4D040AA01 ,  4D040AA31 ,  4D040AA61 ,  4D040BB01 ,  4D040BB51 ,  4D040BB91 ,  4H011AA02 ,  4H011BA01 ,  4H011BB09 ,  4H011BB18 ,  4H011BC18 ,  4H011DA13 ,  4H011DC05 ,  4H011DD01
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 脱窒方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-134658   出願人：栗田工業株式会社
  • 水素ガスを利用した生物学的脱窒方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-094968   出願人：日立プラント建設株式会社
  • 日和見病原体に対する抗菌剤
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-098826   出願人：財団法人岡山県産業振興財団, 国立大学法人岡山大学
全件表示
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM