ガス処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-119607
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313666
出願日： 2002年04月22日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】被処理基板のメタルコンタミネーションを低減することができるガス処理装置を提供すること。【解決手段】被処理基板Wに対してハロゲンを含む処理ガスによりガス処理するガス処理装置3であって、被処理基板Wを収容するチャンバー31と、チャンバー31内の被処理基板Wに処理ガスを供給するためにチャンバー内に配置されたシャワーヘッド40とを具備し、チャンバー31およびシャワーヘッド40の少なくとも一方のうち、少なくとも前記処理ガスと接触する部分31c,40dが、実質的にCr,Ni,Co,Mnからなるか、または実質的にCr,Ni,Co,Mn,Mgのうち2以上の金属の合金からなる、低蒸気圧金属化合物が形成される金属材で構成されている。

請求項（抜粋）：

被処理基板に対してハロゲンを含む処理ガスによりガス処理するガス処理装置であって、被処理基板を収容するチャンバーと、前記チャンバー内で被処理基板の保持のためまたは前記チャンバー内の被処理基板に前記処理ガスを供給するためにチャンバー内に配置されるチャンバー内部材と、を具備し、前記チャンバーおよび前記チャンバー内部材の少なくとも1つのうち、少なくとも前記処理ガスと接触する部分が、実質的にCrからなる金属材で構成されていることを特徴とするガス処理装置。

IPC (6件)：

C23C 16/44 , B01J 19/00 , B01J 19/02 , F27B 5/04 , F27B 5/10 , H01L 21/285

FI (6件)：

C23C 16/44 B , B01J 19/00 K , B01J 19/02 , F27B 5/04 , F27B 5/10 , H01L 21/285 C

Fターム (38件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA53 , 4G075BC04 , 4G075CA02 , 4G075CA25 , 4G075CA47 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4G075EA07 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075ED13 , 4G075FB02 , 4G075FC15 , 4K030AA02 , 4K030AA13 , 4K030AA18 , 4K030BA18 , 4K030BA38 , 4K030CA04 , 4K030EA04 , 4K030FA01 , 4K030GA02 , 4K030KA08 , 4K030KA46 , 4K030KA47 , 4K061AA01 , 4K061BA11 , 4K061CA11 , 4M104BB14 , 4M104BB18 , 4M104BB30 , 4M104DD44 , 4M104DD45 , 4M104FF17 , 4M104FF18 , 4M104FF22

引用特許：

審査官引用 (5件)

高純度炭化ケイ素製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-126729 出願人：信越化学工業株式会社
特開平2-270964
処理室をドライクリーニングするための装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-212044 出願人：東京エレクトロン株式会社, トーキョーエレクトロンアリゾナインコーポレイテッド

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