特許

J-GLOBAL ID：200903087599757825

プラズマ処理装置

発明者： 丹藤 匠 ,  横川 賢悦 ,  菅野 誠一郎 ,  伊澤 勝
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-202716
公開番号（公開出願番号）：特開2008-034409
出願日： 2006年07月26日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】試料の処理中の温度を高速に変更し、また変動を抑制できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空容器内の処理室に配置された試料台上に保持された試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台内に配置され内部に供給された冷媒が蒸発しつつ通流する流路と、この試料台と圧縮機,凝縮機及び膨張弁がこの順に連結されて構成され前記冷媒が循環する冷凍サイクルと、前記膨張弁を通った冷媒が分岐して前記試料台内部の前記流路から前記圧縮機に戻る冷媒と合流する冷媒経路と、前記試料台内部の流路を通り冷凍サイクルを循環する冷媒の量及び前記分岐して前記冷媒経路を流れる冷媒の量を調節する調節器とを備えた。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空容器内の処理室に配置された試料台上に保持された試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、 前記試料台内に配置され内部に供給された冷媒が蒸発しつつ通流する流路と、この試料台と圧縮機,凝縮機及び膨張弁がこの順に連結されて構成され前記冷媒が循環する冷凍サイクルと、前記膨張弁を通った冷媒が分岐して前記試料台内部の前記流路から前記圧縮機に戻る冷媒と合流する冷媒経路と、前記試料台内部の流路を通り冷凍サイクルを循環する冷媒の量及び前記分岐して前記冷媒経路を流れる冷媒の量を調節する調節器とを備えたプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/205

Fターム (25件)：

5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03 ,  5F004BC04 ,  5F004CA02 ,  5F004CA04 ,  5F004DB00 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07 ,  5F004DB30 ,  5F004EB01 ,  5F045AA08 ,  5F045EC07 ,  5F045EE04 ,  5F045EG02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH14 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK07 ,  5F045EK27

引用特許：

出願人引用 (5件)

• プラズマ装置およびその運転方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-160375   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-284368   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 半導体製造装置における冷凍機を用いた真空装置の電極の低温温度コントロールシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-327774   出願人：アプライド・マテリアルズ・ジャパン株式会社, 富士通株式会社
• 流体温度の制御装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-008739   出願人：株式会社小松製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-331085   出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (4件)

• 半導体製造装置における冷凍機を用いた真空装置の電極の低温温度コントロールシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-327774   出願人：アプライド・マテリアルズ・ジャパン株式会社, 富士通株式会社
• 流体温度の制御装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-008739   出願人：株式会社小松製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-284368   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-331085   出願人：株式会社日立製作所