特許
J-GLOBAL ID:200903087633948309
透明導電膜とその製造方法、透明導電膜付き基板およびタッチパネル
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 望稔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-179840
公開番号(公開出願番号):特開2000-113732
出願日: 1999年06月25日
公開日(公表日): 2000年04月21日
要約:
【要約】【課題】高抵抗で、透明性、耐熱性、耐湿性に優れた透明導電膜の提供。【解決手段】ITO膜中の窒素のド-プ量が0.01〜0.6重量%、幾何学的膜厚が5〜25nmで、波長550nmの光の透過率が膜単体で90%以上の透明導電膜と該膜の製法、該膜を被覆した透明導電膜付き基板と該基板を装着したタッチパネル。又は膜中のInに対するSnのド-プ量が4.2〜8.3原子%で、窒素を含まない透明導電膜。
請求項(抜粋):
酸化インジウム・酸化スズ膜からなり、膜中に窒素が0.01重量%以上0.6重量%未満ドーピングされ、幾何学的膜厚が5〜25nmで、波長550nmの光の透過率が膜単体で90%を超えることを特徴とする透明導電膜。
IPC (6件):
H01B 5/14
, C03C 17/245
, C23C 14/08
, G06F 3/033 360
, H01B 13/00 503
, B32B 9/00
FI (6件):
H01B 5/14 A
, C03C 17/245 A
, C23C 14/08 D
, G06F 3/033 360 H
, H01B 13/00 503 B
, B32B 9/00 A
引用特許:
審査官引用 (15件)
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特開平4-308612
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特開平4-308612
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ITO導電膜およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-286489
出願人:シャープ株式会社
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ITO導電膜とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-234978
出願人:シャープ株式会社
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透明導電性積層体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-035066
出願人:三井東圧化学株式会社
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高密度ITO焼結体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-200251
出願人:住友金属鉱山株式会社, 株式会社湘南電子材料研究所
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透明導電体材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-150479
出願人:シャープ株式会社
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特開平4-292802
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特開平4-292802
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特開昭63-315232
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特開昭63-315232
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特開昭63-319135
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特開昭63-319135
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特開昭63-317333
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特開昭63-317333
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