特許
J-GLOBAL ID：200903087671355940

回折光学素子の製造方法、回折光学素子の製造方法によって製造したことを特徴とする回折光学素子製造用金型、回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、光学機器、露光装置、デバイス製造方法、デバイス

発明者：
小楠 誠

小楠 誠 について

, 
岩崎 裕一

岩崎 裕一 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-389978
公開番号（公開出願番号）：特開2002-189112
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：
【要約】【課題】高精度な回折光学素子を形成することができ、短時間かつ低価格で安定して製造可能な回折光学素子の製造方法、回折光学素子の製造方法によって製造したことを特徴とする回折光学素子製造用金型、回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系等を提供する。【解決手段】マスクパターンを被加工物に転写して回折光学素子を形成する回折光学素子の製造方法において、前記回折光学素子の垂直部分の形状を、第一のマスクを用いて形成すると共に、前記回折光学素子の斜面部分の形状を、前記第一のマスクで規定された加工領域内に第二のマスクを用いて形成する。
請求項（抜粋）：
基板上にブレーズド形状のレジストマスクを形成し、該レジストマスクを用いて前記基板をエッチングすることにより前記基板に前記ブレーズド形状を転写する段階を有する回折光学素子の製造方法であって、前記エッチングを行なう前に、前記レジストマスクの前記ブレーズド形状のうちエッジ部に発生したテーパ形状が前記基板に転写されるのを防止する手段を形成する段階を有することを特徴とする回折光学素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/18 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G02B 5/18 ,  G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (16件)：
2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA07 ,  2H049AA08 ,  2H049AA13 ,  2H049AA37 ,  2H049AA39 ,  2H049AA41 ,  2H049AA44 ,  2H049AA53 ,  2H049AA55 ,  2H049AA63 ,  2H095BA12 ,  2H095BC05 ,  2H097AA12 ,  2H097LA17
引用特許：
審査官引用 (18件)
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