特許
J-GLOBAL ID：200903087779906110

基板の平坦度測定装置および形状寸法測定装置

発明者：
喜多 康之

喜多 康之 について

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小関 忠雄

小関 忠雄 について

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桑原 隆

桑原 隆 について


出願人/特許権者：
東芝セラミックス株式会社

東芝セラミックス株式会社 について


代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-295362
公開番号（公開出願番号）：特開2006-105878
出願日： 2004年10月07日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】 背面側に縦型定盤を設置した測定装置において、被測定基板の両面の平坦度を測定できる基板の平坦度測定装置を提供する。【解決手段】 基準平面3bの面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤3と、被測定基板Wを保持する保持機構30と、前記縦型定盤3の基準平面3bと前記保持機構30によって保持された被測定基板Wの間に配置され前記縦型定盤3の基準平面3bとの距離及び前記被測定基板Wの板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック21上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記保持機構30によって保持された被測定基板Wの前面に配置され、前記縦型定盤3の基準平面3b及び、前記被測定基板Wとの距離を測定する一つの移動ブロック31上に搭載された非接触型距離測定センサと、前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板Wの表裏の各平坦度を演算する演算手段とを具備する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面が平滑状態に仕上げられた基準平面を有し、この基準平面の面方向がほぼ垂直状態になるように配置された縦型定盤と、 被測定基板の板面がほぼ垂直状態となるように当該被測定基板を保持する保持機構と、 前記縦型定盤の基準平面と前記保持機構によって保持された被測定基板との間に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面との距離及び前記被測定基板の板面との距離をそれぞれ測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、 前記保持機構によって保持された被測定基板の前面に配置され、ほぼ垂直面内において移動可能になされると共に、前記縦型定盤の基準平面及び前記被測定基板との距離を測定する一つの移動ブロック上に搭載された非接触型距離測定センサと、 前記各非接触型距離測定センサによる測定結果に基づいて、被測定基板の表裏の各平坦度を演算する演算手段とを具備したことを特徴とする基板の平坦度測定装置。
IPC (3件)：
G01B 21/30 ,  G01B 21/02 ,  G01B 21/08
FI (3件)：
G01B21/30 101F ,  G01B21/02 Z ,  G01B21/08
Fターム (14件)：
2F069AA31 ,  2F069AA46 ,  2F069AA54 ,  2F069BB40 ,  2F069CC06 ,  2F069DD25 ,  2F069EE04 ,  2F069GG04 ,  2F069GG58 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ07 ,  2F069MM02 ,  2F069MM26 ,  2F069NN09
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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