特許
J-GLOBAL ID:200903087840941730

半導体レーザ素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-021449
公開番号(公開出願番号):特開平9-214058
出願日: 1996年02月07日
公開日(公表日): 1997年08月15日
要約:
【要約】【課題】 戻り光雑音を防ぐと共に閾値電流の増大を防ぐことができ、横モードが安定で信頼性および高温での特性に優れた半導体レーザ素子を提供する。【解決手段】 n型AlGaInP第1クラッド層14、GaInP活性層15およびp型AlGaInP第2クラッド層16がこの順に積層され、その上方にストライプ状リッジ部を有するp型AlGaInP第3クラッド層18が形成されている。活性層15の近傍にはGaInP可飽和吸収層17が形成されている。電流ブロック層は、活性層から出射されるレーザ光を吸収しないn型Al0.6Ga0.4As層51とn型GaAs層52とからなり、活性層15に近い側にレーザ光を吸収しない層51が形成されている。
請求項(抜粋):
少なくとも第1導電型の第1クラッド層、活性層および第2導電型の第2クラッド層がこの順に積層されて設けられ、該第2クラッド層上に電流狭窄用のストライプ状リッジ部における第2導電型の第3クラッド層が設けられ、該活性層の一部領域としてまたは該活性層近傍位置に、該活性層から出射されるレーザ光を吸収する可飽和吸収領域が設けられ、該ストライプ状リッジ部の両側面を埋め込んで第1導電型の電流ブロック層が設けられ、該電流ブロック層は該レーザ光を吸収する層と吸収しない層とからなり、かつ該活性層に近い側に該レーザ光を吸収しない層が設けられている半導体レーザ素子。
IPC (3件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 ,  H01S 3/133
FI (3件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 B ,  H01S 3/133
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 半導体レーザ素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-193875   出願人:シャープ株式会社
  • 半導体レーザ素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-332231   出願人:シャープ株式会社
  • 半導体レーザ素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-038561   出願人:三洋電機株式会社
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