特許
J-GLOBAL ID：200903087880490722

投影光学系の結像特性計測装置及び計測方法並びに露光装置

発明者：
竹内 裕一郎

竹内 裕一郎 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065163
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258300
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系の残存収差を含む結像特性を正確に計測することができる投影光学系の結像特性計測装置及びそれを備えた露光装置を提供する。【解決手段】 投影光学系22の物体面に、透過する照明光の位相を変化させる位相シフト部が設けられたテストパターンPA1〜PA4を有する位相シフトレチクルRpsを、照明光学系11からの照明光の光軸に対してほぼ直交するように配置する。テストパターンPA1〜PA4,PB1〜PB4の像を、照明光がそれを通過する際に発生する±1次光の二光束干渉により投影光学系22の像面上に結像させる。そのパターンPA1〜PA4,PB1〜PB4の像を空間像検出部28により検出し、その検出結果に基づいて投影光学系22の結像特性を計測する。
請求項（抜粋）：
照明光学系によって照明される物体面の像を像面上に投影する投影光学系の結像特性を計測するための結像特性計測装置において、前記物体面の位置に配置され、透過する前記照明光の位相を変化させる位相シフト部が設けられた所定のパターンを有する位相シフトマスクと、前記投影光学系を介して前記像面上に結像された前記位相シフトマスク上の所定のパターンの像に基づいて前記投影光学系の結像特性を計測する計測手段とを備えた結像特性計測装置。
IPC (3件)：
G01M 11/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 C
Fターム (19件)：
2G086HH05 ,  2G086HH06 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA08 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB05 ,  5F046DC12
引用特許：
審査官引用 (5件)
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