特許
J-GLOBAL ID:200903087887378545
情報記録原盤製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-097141
公開番号(公開出願番号):特開2003-296975
出願日: 2002年03月29日
公開日(公表日): 2003年10月17日
要約:
【要約】【課題】 一定幅でかつ、深度の異なる記録マークが形成された記録媒体を製造する。【解決手段】 記録原盤上に所定の複数の異なる波長に反応するフォトレジスト膜を複数層形成する第1の工程と、上記フォトレジスト膜に上記所定の複数の異なる波長を有するレーザ光を照射し、一定幅でかつ、記録する情報に応じた深度の露光部を形成する第2の工程と、上記露光部を現像し、所定の記録パターンを形成する第3の工程とを少なくとも有し、記録する情報に応じた深度の記録パターンを有する情報記録原盤を製造することで実現する。
請求項(抜粋):
記録原盤上に所定の複数の異なる波長に反応するフォトレジスト膜を複数層形成する第1の工程と、上記フォトレジスト膜に上記所定の複数の異なる波長を有するレーザ光を照射し、一定幅でかつ、記録する情報に応じた深度の露光部を形成する第2の工程と、上記露光部を現像し、所定の記録パターンを形成する第3の工程とを少なくとも有し、記録する情報に応じた深度の記録パターンを有する情報記録原盤を製造することを特徴とする情報記録原盤製造方法。
IPC (2件):
G11B 7/26 501
, G03F 7/20 505
FI (2件):
G11B 7/26 501
, G03F 7/20 505
Fターム (12件):
2H097AA03
, 2H097AA13
, 2H097AB07
, 2H097BB02
, 2H097BB10
, 2H097CA17
, 2H097LA20
, 5D121BA03
, 5D121BB02
, 5D121BB22
, 5D121BB28
, 5D121BB40
引用特許:
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