特許
J-GLOBAL ID:200903088012764464

シリコンウエーハ鏡面面取り部の検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 好宮 幹夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-153621
公開番号(公開出願番号):特開平11-330042
出願日: 1998年05月18日
公開日(公表日): 1999年11月30日
要約:
【要約】【課題】 非常に高感度でシリコンウエーハ鏡面面取り部のキズやカケ、ポリシリコン残留等の表面異常を検出出来るシリコンウエーハ鏡面面取り部の検査方法を提供する。【解決手段】 鏡面面取りしたシリコンウエーハをアルカリエッチングし、顕微鏡にて該鏡面面取り部を観察することを特徴とするシリコンウエーハ鏡面面取り部の検査方法。
請求項(抜粋):
鏡面面取りしたシリコンウエーハをアルカリエッチングし、顕微鏡にて該鏡面面取り部を観察することを特徴とするシリコンウエーハ鏡面面取り部の検査方法。
IPC (2件):
H01L 21/306 ,  H01L 21/66
FI (3件):
H01L 21/306 Z ,  H01L 21/66 L ,  H01L 21/66 J
引用特許:
審査官引用 (9件)
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