特許
J-GLOBAL ID：200903088092664481

汚水処理方法およびその装置

発明者：
一瀬 正秋

一瀬 正秋 について

, 
山下 耕司

山下 耕司 について

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宮前 博子

宮前 博子 について


出願人/特許権者：
アタカ工業株式会社

アタカ工業株式会社 について


代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-353584
公開番号（公開出願番号）：特開2000-176468
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：
【要約】【課題】 有機物を含有しpHの値が高い汚水を高効率で容易に処理できる汚水処理装置を提供する。【解決手段】 pHが9〜11程度の浸出水などの原水をオゾン反応槽1でオゾンを含有する空気に曝気接触する。オゾンは瞬時に自己分解してヒドロキシラジカルを生成し、難分解性有機物などの有機物を酸化分解する。有機酸などが生成してpHの値が次第に低下し、次第にヒドロキシラジカル生成量が低減し、オゾン溶存量が増大する。過酸化水素反応槽7で過酸化水素を添加し、オゾンにて分解生成するヒドロキシラジカルにて有機物を酸化分解する。気泡を除去した後、膜分離手段12にてヒドロキシラジカルの妨害因子となる炭酸ガスがアルカリ土金属と反応した化合物を分離除去し、紫外線反応槽10で紫外線を照射する。pH調製剤が不要で、適正pHで効率よく処理できる。
請求項（抜粋）：
有機物を含有しpHの値が高い汚水にオゾンを接触してpHの値を低下させ、このpHの値が低下した汚水に過酸化水素を添加し、この過酸化水素が添加された汚水に紫外線を照射することを特徴とする汚水処理方法。
IPC (7件)：
C02F 1/72 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (11件)：
C02F 1/72 ZAB Z ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 503 G ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E
Fターム (24件)：
4D037AA11 ,  4D037AA13 ,  4D037AB01 ,  4D037AB02 ,  4D037AB07 ,  4D037AB08 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037BB02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AA15 ,  4D050AB07 ,  4D050AB31 ,  4D050AB62 ,  4D050AB64 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA03 ,  4D050CA09
引用特許：
審査官引用 (9件)
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