特許
J-GLOBAL ID：200903088297237640

新規な感光性樹脂組成物

発明者：
アーマド・エイ・ナイーニ

アーマド・エイ・ナイーニ について

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デイヴィッド・ビー・パウエル

デイヴィッド・ビー・パウエル について

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ジョン・エヌ・メティヴィーア

ジョン・エヌ・メティヴィーア について

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ドナルド・エフ・ペリー

ドナルド・エフ・ペリー について


出願人/特許権者：
フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド

フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド について


代理人 (4件)： 高木 千嘉 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次 ,  竹林 則幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-503127
公開番号（公開出願番号）：特表2008-535003
出願日： 2006年03月22日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
本発明は、(a)少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前躯体ポリマー;(b)少なくとも1つの、構造VI、式中、VはCH又はNであり;YはO又はNR3であり、ここで、R3は、H、CH3又はC2H5であり;R1及びR2は、それぞれ独立に、H、C1-C4アルキル基、C1-C4アルコキシ基、シクロペンチル又はシクロヘキシルであり;或いは、R1及びR2は、縮合して置換又は非置換のベンゼン環を生成することができる;を有する化合物;及び(c)少なくとも1つの溶媒;を含む感光性樹脂組成物であって、ここで、組成物中に存在する構造VIの化合物の量は、組成物が基板に塗布され、引き続いて塗布された基板が基板上に画像を形成するように処理された場合、残留物の形成を阻害するのに有効な量であり、但し、ポリベンゾオキサゾール前躯体ポリマーが、単に、ポリマー中に光活性な部分を含有しないポリベンゾオキサゾール前躯体ポリマーのみから成る場合は、(d)少なくとも1つの光活性な化合物も、又、組成物中に存在する;組成物に関する。本発明は、又、上記組成物を用いた、レリーフ・パターンを形成する方法及び電子部品に関する。 【化1】
請求項（抜粋）：
(a)少なくとも1つのポリベンゾオキサゾール前躯体ポリマー; (b)少なくとも1つの、構造VI:
IPC (9件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027 ,  C08G 73/22 ,  C08L 79/06 ,  C08K 5/37
FI (9件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/023 501 ,  G03F7/075 501 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08G73/22 ,  C08L79/06 ,  C08K5/37
Fターム (52件)：
2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE02 ,  2H025CB26 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC06 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J002CM031 ,  4J002EV217 ,  4J002FD207 ,  4J043PA04 ,  4J043PB04 ,  4J043PB08 ,  4J043PB17 ,  4J043PC185 ,  4J043QB33 ,  4J043QB34 ,  4J043RA52 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043SB03 ,  4J043TA26 ,  4J043TB03 ,  4J043UB051 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA041 ,  4J043VA042 ,  4J043VA092 ,  4J043VA101 ,  4J043XA16 ,  4J043XA19 ,  4J043YA06 ,  4J043YB07 ,  4J043YB37 ,  4J043YB38 ,  4J043ZB22 ,  4J043ZB50
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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