特許
J-GLOBAL ID：200903088899937368

鋳造装置

発明者：
角 智康

角 智康 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-425487
公開番号（公開出願番号）：特開2005-177851
出願日： 2003年12月22日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】必要な温度を簡単かつ確実に検知して、より有効に自動化して鋳型加熱手段の温度を制御し、高品質のシリコンインゴットを低コストで得る鋳造装置を提供することを目的とする。【解決手段】シリコン原料13を加熱溶解したシリコン融液14を底部に設けた出湯口3から出湯する溶解坩堝と、出湯口3に垂下して設けられたノズル5と、溶解坩堝1の下方に配置され、側部9aと底部9bとからなり上部に開口した鋳型9と、鋳型9の側部9aの外周を囲繞するように配設された鋳型断熱材11と、鋳型9と溶解坩堝1との間に配設された鋳型加熱手段8と、鋳型9の下方に配設された冷却手段12と、ノズル5の直下部を監視するように配設された放射温度計4と、放射温度計4によって測定された温度に基づいて鋳型加熱手段8の加熱状態を制御する温度制御手段16と、を具備した鋳造装置である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン原料を加熱溶解したシリコン融液を底部に設けた出湯口から出湯する溶解坩堝と、前記出湯口に垂下して設けられたノズルと、前記溶解坩堝の下方に配置され、側部と底部とからなり上部に開口した鋳型と、前記鋳型の側部の外周を囲繞するように配設された鋳型断熱材と、前記鋳型と前記溶解坩堝との間に配設された鋳型加熱手段と、前記鋳型の下方に配設された冷却手段と、前記ノズルの直下部を監視するように配設された放射温度計と、前記放射温度計によって測定された温度に基づいて前記鋳型加熱手段の加熱状態を制御する温度制御手段と、を具備した鋳造装置。
IPC (7件)：
B22D27/04 ,  B22D25/04 ,  B22D27/18 ,  B22D41/50 ,  B22D46/00 ,  C01B33/02 ,  G01J5/02
FI (7件)：
B22D27/04 A ,  B22D25/04 Z ,  B22D27/18 B ,  B22D41/50 510 ,  B22D46/00 ,  C01B33/02 E ,  G01J5/02 K
Fターム (9件)：
2G066AC01 ,  2G066AC11 ,  2G066BA60 ,  4G072AA01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG04 ,  4G072HH01 ,  4G072NN02 ,  4G072UU02
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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