特許
J-GLOBAL ID：200903088946449750

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者：
原田 由香子

原田 由香子 について

, 
吉田 勲

吉田 勲 について

, 
山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-292108
公開番号（公開出願番号）：特開2007-145823
出願日： 2006年10月27日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】LERが改善され、良好な形状のパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】例えば下式で得られる塩(B1)が例示される。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (5件)：
C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  C07D 333/46 ,  C08L 33/04 ,  C08K 5/00
FI (5件)：
C07C309/17 ,  G03F7/004 503A ,  C07D333/46 ,  C08L33/04 ,  C08K5/00
Fターム (21件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002EV066 ,  4J002EV236 ,  4J002EV306 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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