特許

J-GLOBAL ID：200903089072309622

薄膜製造装置及び製造方法

発明者： 山田 貴一 ,  増田 健 ,  梶沼 雅彦 ,  西岡 浩 ,  植松 正紀 ,  鄒 紅コウ
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (2件)： 東田 潔 ,  山下 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-287761
公開番号（公開出願番号）：特開2005-054253
出願日： 2003年08月06日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：

【課題】 薄膜製造装置内のベントに際し、装置のダウンフロー状態から、ガスが止まること無くダウンフローのベントが行なえるシステムを有し、良好な膜厚分布等を再現しつつ、パーティクル数が少ない連続成膜を安定して行うことが可能な装置及び方法の提供。【解決手段】成膜槽上部からシャワーヘッドを介して槽内にベントガスを供給するためのベントラインを、基板ステージと対向して槽の上蓋内に設け、ベントガスが上流側から下流側に向かって供給されるように構成する。ベントラインはシャワーヘッドに繋がっている成膜用ガスラインを共有し、また、ベントラインにスローベントのシステムが設けられている。このベントラインからベントガスを槽内へ供給する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

真空制御可能な成膜槽に設けられた成膜用ガスラインを使用して成膜槽内の上流側から下流側に向かってベントガスを供給することができるように、かつ、該成膜槽を大気開放することができるように構成されていることを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (3件)：

C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  H01L21/205

FI (3件)：

C23C16/455 ,  C23C16/44 J ,  H01L21/205

Fターム (24件)：

4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA01 ,  4K030BA18 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030FA10 ,  4K030KA04 ,  4K030KA05 ,  4K030KA12 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AD09 ,  5F045AF10 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EC01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 混合器、薄膜製造装置及び薄膜製造方法
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP2002012657   出願人：株式会社アルバック
• CVD装置のシャワーヘッドノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-128460   出願人：日本酸素株式会社

審査官引用 (4件)

• 気相化学反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-314466   出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• プラズマ処理装置のメンテナンス処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-370399   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭61-217572
  
• 特開昭61-217572