特許
J-GLOBAL ID:200903089114820535

画像形成材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-220082
公開番号(公開出願番号):特開2003-029400
出願日: 2001年07月19日
公開日(公表日): 2003年01月29日
要約:
【要約】【課題】 高感度で記録可能であり、画像成時のラチチュードに優れ、耐傷性が改良されたヒートモード対応ポジ型画像形成材料を提供する。【解決手段】 支持体上に、(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する第1の記録層と、(B)分子内に少なくとも2個のエノールエーテル基を有する化合物、(C)該成分(B)と反応して架橋構造を形成可能な、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、(D)光熱変換剤、及び、(E)熱酸発生剤を含有する第2の記録層と、を順次形成してなる。(B)成分としては、下記一般式(1)で表されるエノールエーテル基を有する化合物が好ましい。下記式中、R1、R2、及びR3は、それぞれ独立に水素、アルキル基又はアリール基を表す。【化1】
請求項(抜粋):
支持体上に、(A)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する第1の記録層と、(B)分子内に少なくとも2個のエノールエーテル基を有する化合物、(C)該成分(B)と反応して架橋構造を形成可能な、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂、(D)光熱変換剤、及び、(E)熱酸発生剤を含有する第2の記録層と、を順次形成してなる画像形成材料。
IPC (4件):
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/11 503
FI (4件):
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/11 503
Fターム (19件):
2H025AA01 ,  2H025AA13 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB42 ,  2H025CC11 ,  2H025DA11 ,  2H025DA36 ,  2H025DA40 ,  2H025FA10 ,  2H096AA06 ,  2H096BA11 ,  2H096CA05 ,  2H096CA20 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • レジストパタ-ン形成方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-372545   出願人:関西ペイント株式会社
  • 画像形成材料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-231399   出願人:富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-029677   出願人:三菱化学株式会社
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