特許
J-GLOBAL ID：200903089237086143
レジスト剥離装置およびレジスト剥離方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-193651
公開番号（公開出願番号）：特開2005-032819
出願日： 2003年07月08日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：
【課題】硫酸および過酸化水素水による処理後の基板の表面に硫黄残渣およびパーティクルが残るのを防止できるレジスト剥離装置およびレジスト剥離方法を提供する。【解決手段】ウエハW上で硫酸および過酸化水素水を混合して生成されるレジスト剥離液による処理の後、ウエハWの表面に温水が供給されて、ウエハWの表面に付着しているレジスト剥離液が温水によって洗い流される。すなわち、スピンチャック1によってウエハWが300〜1500rpmの回転速度で回転される一方で、その回転中のウエハWの表面の中央部にDIWノズル4から温水が供給される。ウエハWの表面に供給された温水は、ウエハWの回転による遠心力を受けて、その供給位置からウエハWの周縁に向けて流れる。これによって、ウエハWの表面全域に温水が行き渡り、ウエハWの表面に付着しているレジスト剥離液が温水によって洗い流される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に形成されているレジスト膜を剥離して除去するためのレジスト剥離装置であって、
基板を保持して回転させる基板保持回転手段と、
この基板保持回転手段に保持された基板の表面に、レジスト膜を剥離するための硫酸および過酸化水素水を供給する薬液供給手段と、
上記基板保持回転手段に保持された基板の表面に、温水生成部で生成された温水を供給する温水供給手段と
を含むことを特徴とするレジスト剥離装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 572B
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 647Z
